Tungsten target, also known as tungsten sputtering target, is a product made of pure tungsten powder as raw material. It has a silvery white appearance and is popular in many fields due to its excellent physical and chemical properties.
Tungsten Sputtering Target Detalles
Material: w1
Tipo: objetivo plano, objetivo giratorio
Forma: tubo, cuadrado, circular, tiras largas
Pureza: 99,95%, 99,97%
Densidad convencional: 19,0g / cm3 a 19,2g / cm3
Alta densidad: & gt; 19,2g / cm3
Tamaño: procesado de acuerdo con el dibujo, cumpliendo con los requisitos de precisión
Características del producto: alta densidad, alta pureza, partículas finas, buena densidad
Los principales usos de los objetivos de tungsteno incluyen:
1. preparación de dispositivos electrónicos: los objetivos de tungsteno son ampliamente utilizados en la fabricación de dispositivos electrónicos, como circuitos integrados (ic), pantallas planas (fpd), células solares, etc. Durante la preparación, el objetivo de tungsteno se coloca en una pistola objetivo en una cámara de vacío, liberando átomos o iones de tungsteno a través de bombardeo de iones o haz de electrones, y se deposita en la superficie del sustrato para formar la película de tungsteno necesaria.
2. materiales conductores: los objetivos de tungsteno se utilizan comúnmente para preparar materiales conductores debido a su buena conductividad eléctrica y alto punto de fusión. Se pueden utilizar para preparar resistencias de alta temperatura, materiales de electrodos, dispositivos electrónicos de alta potencia, etc.
Los usuarios de objetivos de tungsteno incluyen fabricantes de semiconductores, fabricantes de pantallas, industria fotovoltaica, fabricantes de equipos electrónicos, instituciones de investigación científica, etc. Estas industrias y unidades utilizan ampliamente objetivos de tungsteno en los campos de la preparación de películas finas, la investigación de materiales y la producción de dispositivos electrónicos.
Proceso tecnológico:
Objetivo plano: embalaje de detección de productos terminados de tratamiento de superficie de procesamiento profundo de prensado, sinterización y laminación de polvo de tungsteno
Pequeño objetivo giratorio: embalaje de detección de productos terminados para el tratamiento de superficie de procesamiento profundo de extrusión y forja de polvo de tungsteno
Gran objetivo giratorio: embalaje de detección de productos terminados de tratamiento de superficie de procesamiento profundo de prensado y sinterización de polvo de tungsteno
Tungsten sputtering targets are used for magnetron sputtering coating. Sputtering coating is one of the main methods of physical vapor deposition (PVD). It is used to deposit thin films with special functions on the surface. Sputtering targets are mainly used in flat panel display coating, semiconductor coating, glass coating, solar cell coating, d
